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CL200半柜式清洗机
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     CL200半柜式柱流显影/清洗机采用直线导轨控制柱状液流沿wafer半径方向来回扫动,同时配备有去离子水清洗和氮气吹干功能,采用高精度伺服电机控制wafer的旋转,由七寸全彩触屏进行操作。
  全不锈钢机柜,耐腐蚀透明观察盖,丝杆直线导轨,不锈钢内腔,设计合理,经久耐用。伺服马达控制旋转速度和时间,自动控制显影、清洗和吹干,显影/清洗均匀性和重复性好。


4”wafer显影/清洗定制机参数:

  ● 全不锈钢机柜,上部左侧为耐腐蚀透明盖子,右侧为触屏控制面板。机柜尺寸:800mm(W)*600mm(D)*1000mm(H)。

  ● 不锈钢内腔直径为260mm,深度250mm,适合4”wafer的清洗操作,带两路喷液系统。

  ● 配置8L不锈钢压力桶,行程100mm的直线导轨。

  ● 七寸全彩触摸屏,高级PLC控制,进口高精度伺服马达。

  ● 转速范围20-10000RPM可调;单步最长3000S;最大加速度50000RPM/S;可程序编缉存贮100组,每组100步程序。   

  ● 直线导轨最大行程100mm,最大移动速度100mm/s。



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